1세부

하이브리드 소재기반 유연 반도체 공정 및 소자/패키징 기술 연구

• 포토레지스트

  반도체 산업 발전을 위한 핵심 소재

  반도체 집적회로 제조 공정 중 회로도를 기판으로 전사하는 감광성 고분자 조성물

  자외선에 의해 개시되는 화학반응 진행: 레지스트 분자의 절단 또는 분자간 가교를 통해 용해도의 차이 발생

  대한민국 반도체 산업 발전 지속

  우수한 패터닝 성능 / 균일한 품질 / 가격경쟁력을 모두 지닌

  소재의 국산화 필수 불가결
  
• 고품질 레지스트 고분자

  고해상도 패터닝 성능, 품질균일성 요구

  포토레지스트는 고분자 수지를 중심으로 광산발생제(PAG), 첨가제 등을 용제
  용해시켜 제조

  적용되는 광원의 파장에 따라 차별화된 분자 구조를 가진 고분자 적용

  우수한 품질의 레지스트 패턴 구현을 위해 단량체의 구조 및 순도, 고분자의 분자량
  특성 제어가 필수

  소재 대외 의존도 ↓

  일관된 품질균일성 및 생산성 고성능 고분자 생산기술
  

  

참여기업

㈜케맥스	주소	경기도 평택시 산단로15번길 28-5 2층업.
㈜씨케이켐	주소	경기도 수원시 영통구 신원로 304, 3동 303호
	홈페이지	https://www.ckchem.co.kr/
㈜ 연수화학	주소	경기도 용인시 처인구 양지면 추계로 42
솔루스첨단소재㈜	주소	본사 : 전라북도 전주시 완산구 천잠로 303, 문화기술동 121호 (효자동2가) 연구소: 경기도 용인시 구성로 357 용인테크노밸리 지식산업센터 C동 306호
	홈페이지	https://www.solusadvancedmaterials.com/kr
㈜인실리코	주소	본사: 경기도 안산시 단원구 산단로 112-19
	홈페이지	https://insilico.co.kr/

참여 연구 인력

1세부 : 차세대 반도체 구현을 위한 sub-nm 이하 초미세공정용 첨단 소재 개발