2세부

메모리 및 차세대 반도체 소자를 위한 기능성 박막 미세제어 공정 개발

• 최종목표
  서브나노미터 원자수준 제어 박막증착 공정 개발을 위한
  소재/장비 고도화 기술 개발 및 AI반도체 대응 박막증착공정 개발
• 전략
  추진과제
  ALD 첨단소재 개발을 통한
  원자수준 박막증착 제어

  계산 플랫폼 개발을 통한
  ALD 부품/장비 개발 고도화

  AI반도체 대응
  ALD 증착공정 개발

참여기업

㈜이지티엠	주소	경기도 수원시 영통구 신원로 304, 3동 303호
	홈페이지	http://www.egtm.co.kr/
㈜유진테크	주소	경기도 용인시 처인구 양지면 추계로 42
	홈페이지	https://www.eugenetech.co.kr/
㈜넥서스비	주소	본사: 전라북도 전주시 완산구 천잠로 303, 문화기술동 121호 (효자동2가) 연구소: 경기도 용인시 구성로 357 용인테크노밸리 지식산업센터 C동 306호
	홈페이지	https://nexusbe.co.kr/
㈜모만	주소	경기 안산시 상록구 한양대학로 55, 산학연협력관
	홈페이지	http://www.itechu.co.kr/
㈜AP시스템	주소	본사 : 경기도 화성시 동탄면 동탄산단 8길 15-5
	홈페이지	https://www.apsystems.co.kr/
㈜씨케이켐	주소	경기도 수원시 영통구 신원로 304, 3동 303호
	홈페이지	https://www.ckchem.co.kr/

참여 연구 인력

2세부: 메모리 및 차세대 반도체 소자를 위한 기능성 박막 미세제어 공정 개발